Cena s DPH / bez DPH
sklademVydáno: 2022-06-15
ISO 23170:2022
ISO 23170:2022 - Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
Formát
Dostupnost
Cena a měna
Anglicky PDF
K okamžitému stažení
Tisknutelné
4547 Kč
Anglicky Tisk
skladem
4547 Kč
| Označení normy: | ISO 23170:2022 |
| Vydání: | 1 |
| Vydáno: | 2022-06-15 |
| Počet stran (Anglicky): | 29 |
Popis
ISO 23170:2022
This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).